第277章 光刻机测试（上）
光刻机，什么时候能开始光刻测试？”
听到有人提问，杨威力、丁小雅等人同时转头看过来，见是老板吴志航，纷纷打招呼问好，吴光辉出声给吴志航解释道：“对，就是这台机器，昨天组装完成之后，第一时间就从研发大楼搬运到了无尘车间，经过一天一夜的安装调试，现在已经要差不多了。”
吴志航满意的点点头，围着光刻机转了一圈，这台设备为全封闭结构，就像一个四四方方的铁皮文件柜，外壳喷涂成了乳白色，左右两侧，设置有硅晶圆入口和出口，靠外一侧安装着一个控制面板和一台大屁股显示器。他有些疑惑的问道：“只看外表，和佳能、尼康的光刻机似乎都不太一样，这是对外壳进行了优化吗？”
吴光辉摇摇头，说道：“不止优化了外壳，也优化了部分内部结构。老板你提供的资料里不是有一部分0.5微米光刻机的预研资料吗，梁教授他们研发一微米光刻机的时候，参考了0.5微米光刻机的内部结构，对设计图进行了一些更改优化。理论上来说，这些优化对晶圆的加工速度和加工精度，都有所提升，实际情况如何，还需要测试过后才知道。”
梁安平等人又忙活了半个多小时，光刻机终于调试完成，将提前准备好的掩膜版固定到掩膜版工作台上。杨威力通过对讲机沟通，让一位名为白巧玲的女工，送来了几十片已经涂好光刻胶的硅晶圆，梁安平亲自动手，将硅晶圆安置到光刻机晶圆入口处的支架上，然后按下操作面板上的启动按钮。光刻机内部传出细微的机械转动声音，一张硅晶圆被机械臂送进光刻机内部，在深色玻璃观察窗上，亮起一抹深邃的紫色光芒，开始对硅晶圆进行加工。
见状，吴志航出声询问道：“这台光刻机使用的是哪种光源，是高压汞灯产生的436nmg-line和365nmi-line，还是24