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黑科技进修手册

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第 61 章 星晓[08]
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  光刻机才能避免未来的芯片战争落于下风。

  群聊里提到的光刻机工作台和9nm线宽光刻技术的研究项目在几年前立了项,可还有不少光刻机相关研究项目是在‘芯片制裁’后才成立。

  距离美帝亮出獠牙也不过两三年的时间,盛明安觉得他们没有太多时间等待他人警醒。

  有些科研项目已进行到一半或尾声的,他要尽早联系。

  有些项目还没立的,他得抢先联系团队。

  现在是争分夺秒的时刻,他们确实没有太多时间。

  盛明安拿笔在纸上迅速简画出光刻机结构,先简单划分其主要核心系统工作台、投影物镜和光源。

  光刻机双工作台:首都中卓精科科技,主创团队水木大学教授。

  其次是光源系统即光源的产生(涉及激光器)、光的收集(涉及极高精密反射镜),最后是光的纯化和均一化(涉及镜头均匀和曝光技术)。

  然后是投影物镜……

  草稿本很快全是密密麻麻的注释,每一个系统、每一个关键技术对应着哪个公司、哪个团队全部写下来。

  完成后,盛明安再检查一遍,没发现遗漏,拨通陈惊g的电话:“跟你说点事。”

  陈惊g:“我听着。”

  盛明安长话短说,“光电实验室的甘教授团队前年启动攻克9nm光刻技术项目,联系他们谈合作的事。”

  陈惊g:“可行吗?”

  盛明安在草稿本光刻技术这里画了个圈并说:“甘教授读博期间曾在光刻技术上突破光学衍射极限,他本人非常擅长光刻技术。”

  陈惊g:“我现在通知林成建。”

  “不急,我这边还列出实力斐然的团队,大部分隶属国企,直接跟国企合作,但我们得拿出诚意……”盛明安徐徐说来。

  两人一个说一个听,配合很默契,时光不知不觉消弭过去,结束通讯后没什么话说,但也都没挂断电话。

  直到中午到来,陈惊g才主动开口:“你去吃饭吧。”

  盛明安:“嗯。”停顿几秒,他续说:“金大光电那边由我去一趟,谈下研发光刻胶的团队。”

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